展開專利分(fēn)類

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展開申請日期

25489件近三年

58725件近五年

8431件2022

17058件2021

19051件2020

14185件2019

16504件2018

21462件2017

24761件2016

25750件2015

27240件2014

25997件2013

25577件2012

25136件2011

23323件2010

21200件2009

21916件2008

20635件2007

21778件2006

23221件2005

25497件2004

27106件2003

26076件2002

26453件2001

23250件2000

18708件1999

18594件1998

17212件1997

15977件1996

15924件1995

14991件1994

15942件1993

16925件1992

16707件1991

15893件1990

14624件1989

13500件1988

12953件1987

12443件1986

12599件1985

11072件1984

9566件1983

9216件1982

8612件1981

7826件1980

7112件1979

6524件1978

6586件1977

6765件1976

6533件1975

6939件1974

7312件1973

6797件1972

4964件1971

4800件1970

3889件1969

3259件1968

2852件1967

2822件1966

2545件1965

2073件1964

1793件1963

1614件1962

1537件1961

1429件1960

1244件1959

1276件1958

1106件1957

1119件1956

956件1955

803件1954

779件1953

631件1952

633件1951

587件1950

502件1949

430件1948

420件1947

392件1946

364件1945

315件1944

376件1943

412件1942

430件1941

394件1940

430件1939

462件1938

414件1937

398件1936

360件1935

334件1934

298件1933

324件1932

360件1931

340件1930

374件1929

342件1928

292件1927

246件1926

215件1925

171件1924

172件1923

165件1922

158件1921

160件1920

134件1919

81件1918

60件1917

37件1916

39件1915

48件1914

65件1913

70件1912

63件1911

57件1910

45件1909

28件1908

15件1907

23件1906

21件1905

18件1904

21件1903

26件1902

1件1901

2件1899

申請日期-
  • 1 一種用(yòng)于OLED像素沉積的(de)金屬掩膜版及加工方法  
  • [發明(míng)專利] CN202211308626.X_  浙江衆淩科技有限公司 2022年10月(yuè)25日
  • 本發明(míng)公開一種用(yòng)于OLED像素沉積的(de)金屬掩膜版及加工方法,晶面(111)、晶面(200)、晶面(220)和(hé)晶面(311)的(de)衍射峰強度分(fēn)别定義爲I(111)、I(200)、I(220)和(hé)I(311);A=I(200)/{I(111)+I(200)+I(220)+I(311)};B=I(220)/{I(111)+I...
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  • 2 一種在水(shuǐ)系統中金屬體上原位形成防蝕塗層的(de)系統和(hé)方法  
  • [發明(míng)專利] CN202211306358.8_  嘉合能源科技(東營)有限公司藝科水(shuǐ)處理(lǐ)技術(山東)有限公司 2022年10月(yuè)25日
  • 本發明(míng)提供一種在水(shuǐ)系統中金屬體上原位形成防蝕塗層的(de)系統和(hé)方法,涉及油田金屬制品腐蝕控制技術,該系統包括:連接電源用(yòng)于産生具有時(shí)變頻(pín)率的(de)電磁波的(de)發生器、分(fēn)别包括與發生器電連接且相互分(fēn)開以及接觸水(shuǐ)的(de)兩套處理(lǐ)單元...
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  • 3 一種背面強化(huà)的(de)單體靶材及其制備方法  
  • [發明(míng)專利] CN202211299707.8_  有研億金新材料有限公司有研億金新材料(山東)有限公司 2022年10月(yuè)24日
  • 本發明(míng)公開了(le)一種背面強化(huà)的(de)單體靶材及其制備方法,該背面強化(huà)的(de)單體靶材包括一體成型的(de)濺射層和(hé)強化(huà)層;所述濺射層的(de)晶粒尺寸≤100μm;所述強化(huà)層位于濺射層的(de)背面,強化(huà)層的(de)硬度大(dà)于濺射層的(de)硬度,強化(huà)層的(de)厚度爲0.5mm‑3m...
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  • 4 一種長(cháng)壽命濺射靶材及其制備方法  
  • [發明(míng)專利] CN202211299706.3_  有研億金新材料有限公司有研億金新材料(山東)有限公司 2022年10月(yuè)24日
  • 本發明(míng)公開了(le)一種長(cháng)壽命濺射靶材及其制備方法,長(cháng)壽命靶材包括一體成型的(de)濺射層和(hé)強化(huà)層,靶材的(de)正面是濺射層,靶材的(de)背面是強化(huà)層,強化(huà)層位于濺射層的(de)背面,強化(huà)層的(de)硬度大(dà)于濺射層的(de)硬度,強化(huà)層的(de)厚度大(dà)于3mm,強化(huà)層的(de)厚...
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  • 5 成膜設備及其維護方法  
  • [發明(míng)專利] CN202211299648.4_  無錫先爲科技有限公司 2022年10月(yuè)24日
  • 本申請公開了(le)一種成膜設備及其維護方法,涉及成膜設備相關技術領域。其中,本申請提供的(de)成膜設備包括操作箱、反應器、升降裝置、連接通(tōng)道和(hé)轉運件,操作箱具有操作室,反應器安裝在所述操作室内并包括蓋體、箱體及位于所述蓋體...
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  • 6 薄膜制備裝置以及降低薄膜制備中薄膜不良的(de)方法  
  • [發明(míng)專利] CN202211299020.4_  新美(měi)光(guāng)(蘇州)半導體科技有限公司 2022年10月(yuè)24日
  • 本申請涉及薄膜制備領域,涉及一種薄膜制備裝置以及降低薄膜制備中薄膜不良的(de)方法。裝置包括腔室、承載部、氣體保護部。承載部具有開口部,待鍍工件至少部分(fēn)表面裸露于開口部;氣體保護部具有氣體通(tōng)道,氣體通(tōng)道具有若幹進氣孔...
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  • 7 一種摻雜(zá)非晶矽層、制備方法、制備裝置和(hé)太陽能電池  
  • [發明(míng)專利] CN202211298854.3_  深圳市拉普拉斯能源技術有限公司 2022年10月(yuè)24日
  • 本發明(míng)提供了(le)一種摻雜(zá)非晶矽層、制備方法、制備裝置和(hé)太陽能電池,所述制備方法包括:将矽片裝至沉積腔進行預處理(lǐ),通(tōng)入摻雜(zá)源、矽源和(hé)氫氣進行第一次沉積,提高(gāo)摻雜(zá)源進料量後進行第二次沉積,制備得(de)到所述的(de)摻雜(zá)非晶矽層。本...
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  • 8 一種抑制PECVD法生長(cháng)多(duō)晶矽表面爆膜的(de)方法  
  • [發明(míng)專利] CN202211298705.7_  英利能源發展(天津)有限公司英利能源發展有限公司英利能源(中國)有限公司 2022年10月(yuè)24日
  • 本發明(míng)涉及太陽能電池技術領域,具體公開一種抑制PECVD法生長(cháng)多(duō)晶矽表面爆膜的(de)方法。所述方法包括以下(xià)步驟:将矽片進行微制絨工序,形成微制絨表面;采用(yòng)PECVD法在所述微制絨表面上依次沉積隧穿氧化(huà)層和(hé)多(duō)晶矽層。采用(yòng)本發明(míng)...
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  • 9 氣動微張力高(gāo)精度繃膜系統  
  • [發明(míng)專利] CN202211298627.0_  怡通(tōng)科技有限公司 2022年10月(yuè)24日
  • 本發明(míng)公開了(le)氣動微張力高(gāo)精度繃膜系統,包括第一箱體、放卷筒和(hé)收卷筒,所述第一箱體的(de)兩端均連通(tōng)有第二箱體,所述第二箱體的(de)底部固定連接有底座,所述放卷筒和(hé)收卷筒分(fēn)别縱向設置在兩個(gè)第二箱體内,所述第二箱體上固定連接...
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  • 10 一種溫室大(dà)棚鋼管除鏽裝置  
  • [發明(míng)專利] CN202211292092.6_  興化(huà)市華成鍍鋅管件有限公司 2022年10月(yuè)21日
  • 本發明(míng)公開的(de)一種溫室大(dà)棚鋼管除鏽裝置,涉及鋼管除鏽技術領域,包括大(dà)棚,還(hái)包括調整機構、擺動機構、行走機構;所述擺動機構用(yòng)于驅動擺動調整筒擺動;調整機構包括擺動調整筒,擺動調整筒上均勻設置有四組導槽,四組導槽彼此...
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